Isı kaybını durdurun: Waferlerinizi ısıtmak için daha iyi bir yol
Silikon waferlerini ısıtma konusundaki sorun şu: Büyük miktarda enerji gerekiyor, ancak bu enerjinin çoğu istenmeyen yerlere gidiyor.
Standart IR lambaları ısıyı her yöne yayıyor; bu da 360 derecelik bir ısı dağılımı anlamına geliyor. Sonuç olarak, işlem odasının iç kısımları yanıyor. Bu hem enerji israfıdır, hem de ekipmanın gövdesini devasa bir radyatöre dönüştürür. Bu durum, yakınında çalışan kişiler için ciddi bir güvenlik riskidir.
Çözüm çok basit: Yönlendirilmiş IR ışığı kullanmak.
Isıyı dışarıya kaçıran standart kuvars tüpler yerine, özel yansıtıcılar ve iç kaplamalara sahip lambalar kullanılır. Bunu, bir hortuma nozül takmak gibi düşünün. Kızılötesi ışığı doğrudan waferin üzerine yönlendirerek enerjinin hedefe ulaşmasını sağlarız.
Vakum odasının duvarları artık ısıyı emme görevi görmüyor. Bu sayede soğutma sistemleri için işler çok daha kolaylaşıyor. Duvarlar soğuk kaldığı sürece, termal genişleme nedeniyle mekanik toleransların bozulması endişesi olmaz. Ayrıca, operatörler bakım sırasında dış panellere dokunabilirler ve yanmazlar.
En iyisi ise, çok daha düzenli bir termal profille karşılaşılmasıdır. Artık kenarlarda o rahatsız edici sıcaklık gradyanları görülmez; bu da ince film tabakalarının düzgün bir şekilde oluşmasını sağlar.
Ancak bir uyarıda bulunmak gerekir.
Bu bir “sihirli düğme” değildir. Isıyı yoğunlaştırdığınız için wafer yüzeyindeki akı yoğunluğu artar. Eğer PID kontrol cihazınız doğru şekilde ayarlanmamışsa, sıcak noktalar veya daha kötüsü termal şoklar oluşabilir. Eğer dar bir ışın kullanarak hızlıca ısı artışı yaparsanız, wafer zarar görebilir.
Tavsiyem: İlk birkaç testte biraz daha zaman harcayın. Enerjinin waferin merkezine ulaştığından ve kenarlara sızmadığından emin olun. Doğru dengeyi bulduktan sonra her şey yoluna girecektir.