İlk pişirme işlemi sırasında, fotoresist profili belirlenir. Wafer üzerindeki 5°C’lik bir değişiklik, CD değerlerini bozar, ürün kalitesini düşürür ve pahalı yeniden işlemlere yol açar. Bu belirsizliği ortadan kaldırmak için özel olarak tasarlanmış bir fotoresist pişirme lambası kullanıyoruz.
Teknik Açıdan Önemli Olanlar
±0,1°C seviyesinde wafer düzeyinde homojenlik sağlamak amacıyla kısa dalga boylu halojen lambalar kullanılır. Entegre termometreler sayesinde sıcaklıklar milisaniyeler içinde kontrol edilir ve böylece yumuşak ve sert pişirme sıcaklıkları sabit tutulur. Lamba, düşük gaz salımı yapan malzemelerden yapılmış olup, yüzeyinde hiçbir parçacık oluşmaz. Karbon fiber izolasyonu sayesinde ısı yoğunluğu düşük tutulur ve sıcaklık hızla stabil hale gelir. Kuvars kaplaması ise tekrarlanan ısı değişimlerine dayanıklıdır. Tam kapasiteyle 5.000 saatten fazla kullanım mümkündür ve performans kaybı %5’in altındadır.
Neden Burada Etkili?
Bu cihaz, waferin kurutulması, fotoresistin pişirilmesi, paketleme işlemleri ve temizlenmesi gibi işlemleri aynı ekipmanlarla gerçekleştirir. Yüksek homojenlik sayesinde kenar bölgelerindeki sorunlar azalır ve üretim verimi artar. Hızlı sıcaklık ayarı ise pişirme süresini kısaltır, enerji tüketimini azaltır ve üretim hızını artırır. Isı kontrolü sayesinde işlem parametreleri daha iyi belirlenebilir.
Bilinmesi Gerekenler
Lamba, standart arayüzlerle uyumludur; ancak reflektörün geometrisi wafer boyutuna ve tutucu yapısına uygun olmalıdır. PID ayarlarının yapılması ve işlem noktalarındaki sıcaklık değerlerinin doğrulanması için kısa bir test süreci gereklidir. Kuvarsın üst sıcaklık sınırının yakınında çalışmak lambanın ömrünü kısaltır; bu nedenle sürekli güvenilirlik için 650°C’nin altında çalışılmasını öneririz.