Mô đun sưởi ấm bằng tia hồng ngoại theo từng khu vực
Trong quy trình in ấn bằng phương pháp lithography, sự thay đổi nhiệt độ chỉ 1°C cũng có thể khiến độ rộng của các đường nét trên wafer thay đổi vài...
Mô đun hồng ngoại sấy thuốc kháng quang
Trên tầng lithography, chỉ cần lệch nướng mềm photoresist nửa độ cũng đủ để làm sai lệch kiểm soát kích thước quan trọng (CD). Wafers bị dồn ứ, tỷ lệ...