在第一步烘烤过程中，光阻的厚度会被设定下来。如果晶圆表面的温度波动达到5°C，那么就会导致CD值出现偏差，进而影响后续的工艺流程，同时还会造成昂贵的返工成本。我们设计的这种光阻烘烤装置，就是为了消除这种不确定性。 技术上的关键点 我们使用短波卤素灯，这些灯光被置于设计有±0.1°C精度控制的反射腔...

在光刻车间，光刻胶软烘烤的半度漂移足以使关键尺寸（CD）控制超出规格。晶圆堆积，废品增加，生产线因热不一致而受到损失。我们构建的光刻胶干燥红外模块旨在消除晶圆干燥、软烘烤和硬烘烤过程中的不确定性。 底层重要因素 我们使用石英卤素发射器运行短波红外线，将能量直接传递到光刻胶层。该模块在烘烤面上保持晶...