リソグラフィー工程において、95℃での低温焼成時に、たとえ半度でも温度が変動するだけで、重要な寸法制御が乱れ、現像後に不良が発生し始めます。このようなばらつきを解決するためには、ツインチューブ式の赤外線ヒーターが最適です。このヒーターは、迅速かつ均一な熱をウェハーに与えることで、熱的均一性を維持し、その結果、ロットごとにフォトレジストの特性が一定に保たれます。
内部構造が重要な理由 このヒーターは、ツインチューブ式の構造を持ち、短波長の赤外線を利用しているため、高い放射密度と速い応答速度を実現します。ウェハー全体の温度を±0.1℃以内に保ち、ソフトベイクやハードベイクの際にも設定値を安定させることができます。過剰な熱や無駄なエネルギー消費もありません。クリーンルーム向けに設計されており、石英製のケースやセラミック製のエンドキャップ、高純度の部品を使用しているため、粒子の発生を抑制し、クラス1～100の環境でも問題なく使用できます。5,000時間以上使用しても、強度の変動は5％未満であり、これにより校正やプロセス制御の回数を減らすことができます。
フォトレジスト処理においては、一貫した焼成条件が重要です。このヒーターは、迅速に所定の温度に到達し、サイクルタイムを短縮し、焼成室の安定性を保ちます。その結果、再作業や廃棄物が減少します。放射熱が直接対象物に届くため、エネルギーの消費も少なく、長期間の使用が可能です。また、ウェハーの洗浄や乾燥の工程においても、同じ精度によって表面エネルギーや接触角を安定させることができます。
実用上の注意点 設置時には、正確な光学的位置合わせとしっかりとした固定が必要です。少しでも誤差があると、ウェハー上に局部的な高温域ができてしまいます。ヒーターを設置する際には、反射板の形状をチャンバーの形状に合わせ、電源や熱管理システムも適切に設定する必要があります。安定状態になるまでには少し時間がかかるため、最良の結果を得るためには、その段階を考慮して焼成条件を設定する必要があります。
私たちは、半導体製造に求められる厳格な要件に応えるために、このヒーターを製造しています。再現性の高い熱性能、クリーンな動作、そして安定した稼働時間を提供します。