在半导体洁净室中正确使用红外线加热技术
在半导体洁净室中进行部件的干燥和固化处理时，传统的对流式烤箱显然不够理想。它们效率低下、结构笨重，而且对于我们现在的需求来说已经显得过时了。
近年来，人们越来越注重“无铅”和“环保”的生产方式。但对我们这些一线操作人员来说，这不仅仅是为了满足合规性要求，更重要的是要消除有害的挥发性有机物，同时减少洁净室所需的能源消耗。
为什么红外线加热更优
想象一下对流式烤箱的工作原理：它先加热空气，再让空气来加热部件。这是一种间接的加热方式，会浪费大量能量，且效率极低。
而红外线加热则不同。它就像夏日里的阳光一样，直接照射到目标物体上。我们可以称之为“选择性吸收”，简单来说，热量直接作用于部件，而无需经过空气介质。这样一来，加热速度会快得多，而且不会让整个洁净室变成“桑拿房”。
环保又省力
传统的固化方式往往需要使用化学催化剂，或者让部件长时间处于高温环境中。这种方式不仅耗能巨大，还会产生大量的温室气体。
而使用红外线加热的话，只需调整波长以适应所处理的材料即可。这样，就能只使用必要的能量，避免浪费。此外，由于它是电驱动的，因此不会产生任何燃烧副产品或温室气体，环境更加清洁。
需要注意的问题（工程上的权衡）
不过，不能简单地放入高功率的红外线元件就能解决问题。如果那样做的话，很可能会带来麻烦。
因为红外线的热密度非常高，如果PID控制器设置不当，很容易导致部件表面被烧毁。另外，石英管在受热时会膨胀，如果固定装置太紧，那么这些石英管就有可能在加热过程中断裂。
专业建议： 使用弹簧式固定装置，给元件一些活动空间，这样就能延长其使用寿命。
最棒的是，这种加热方式可以让你在干燥过程中不再使用有毒溶剂。这样可以降低每块晶圆的能耗，同时保持环境的清洁。这样，大家都能受益。