Hentikan pembaziran masa: Mengapa penggunaan pemanas inframerah vakum adalah pilihan yang tepat untuk pemprosesan semikonduktor
Jika anda masih bergantung pada sistem pengudaraan panas untuk pemprosesan semikonduktor, kemungkinan besar anda sedang membuang banyak masa hanya untuk menunggu.
Peralihan kepada pemanas inframerah vakum bukanlah sekadar “peningkatan” yang tidak perlu. Sebenarnya, ia merupakan cara yang berbeza untuk menghantar haba ke permukaan wafer. Bayangkanlah: sistem udara memerlukan gas untuk mengalirkan haba. Namun, dalam keadaan vakum, gas tersebut tidak ada lagi. Pemanas inframerah pula menggunakan foton untuk menghantar tenaga secara langsung ke permukaan wafer. Tidak perlu ada perantara.
Kelajuan inilah yang penting.
Dengan sistem udara panas, proses pemanasan berlaku secara perlahan. Anda perlu memanaskan udara terlebih dahulu, kemudian dinding, dan akhirnya permukaan wafer. Ini merupakan proses yang sangat lambat. Namun, pemanas inframerah berbeza. Ia mampu memanaskan permukaan wafer dengan segera.
Saya katakan ini sebagai cara untuk mengurangkan “kos masa”. Daripada menunggu bilik pemprosesan menjadi panas, pemanas inframerah akan bertindak sebaik sahaja suis dihidupkan. Apabila anda bekerja dalam skala besar, masa yang dijimatkan ini dapat membantu meningkatkan jumlah wafer yang boleh diproses.
Tetapi, anda tidak boleh menggunakan lampu biasa untuk tujuan ini.
Bekerja dalam keadaan vakum memerlukan peralatan khusus. Kami menggunakan kapsul kuarsa kerana ia mampu menahan perbezaan tekanan tanpa pecah – ini merupakan syarat penting agar mesin dapat berfungsi dengan baik.
Yang terbaik ialah anda boleh mendapatkan haba yang banyak dalam ruang yang kecil. Anda boleh mengarahkan tenaga tersebut tepat ke tempat wafer berada, tanpa membuang tenaga untuk memanaskan seluruh ruang vakum.
Namun, perlu berhati-hati dengan kepadatan tenaga yang digunakan. Jika susunan lampu tidak seimbang atau wafer tidak berputar, ia akan menyebabkan “titik panas” yang boleh merosakkan wafer tersebut. Anda juga perlu menyesuaikan pengawal PID agar respons pemanasan berlaku dengan cepat. Jika tidak, suhu akan melebihi had yang ditetapkan, dan ini boleh merosakkan wafer tersebut.
Kesimpulan:
Dengan menggunakan pemanas inframerah, anda boleh menggunakan bilik pemprosesan yang lebih kecil, dan proses pemanasan berlaku dengan lebih cepat. Kita boleh mencapai suhu yang diinginkan dalam beberapa saat saja, bukan beberapa minit.
Ia merupakan pertukaran yang berbaloi. Anda perlu mengorbankan penggunaan kipas biasa, tetapi sebagai gantinya, anda akan mendapat ketepatan yang tinggi daripada radiasi elektromagnetik. Bagi kebanyakan orang yang bekerja dalam bidang pemprosesan semikonduktor, ini merupakan pertukaran yang berbaloi.