Коли необхідно висушити пластини датчиків MEMS після хімічного чищення, потрібна теплота – і її потрібно отримати якомога швидше. Але ось проблема:...

Як боротися з поломками ламп під час сушіння пластин Будьмо чесні: коли в заводі з виробництва напівпровідників ламається інфрачервона лампа, це...

На виробничій лінії один лише слід води після процедури CMP може зруйнувати чіп, який вже пройшов процедуру полірування. Сушіння пластини після CMP є...

На виробничій ділянці навіть мікрон води, що залишився, може суттєво знизити вихід продукції. Конвекційні печі не можуть відповідати тепловому...

На цеху літорафії зміщення у пів градуса під час софт-бейку фотоresistu достатнє, щоб вивести контроль критичного розміру (CD) з допусків. Вафлі...

Пластина виходить з фінального ополіскування, і час починає йти. Якщо залишити її надто довго або забезпечити нерівномірний тепловий профіль під час...