Trong quá trình xử lý, hình dạng lớp phim quang học được xác định ngay trong lần nung đầu tiên. Sự thay đổi nhiệt độ 5°C giữa các vùng trên wafer sẽ làm sai lệch giá trị CD, gây hư hỏng lớp phim quang học và làm lãng phí chi phí sửa chữa. Chúng tôi đã phát triển loại đèn nung có khả năng duy trì độ đồng đều cao nhằm loại bỏ những yếu tố không ổn định này.
Những yếu tố kỹ thuật quan trọng Chúng tôi sử dụng đèn halogen sóng ngắn, được thiết kế để duy trì độ đồng đều nhiệt độ ở mức ±0,1°C trên toàn bề mặt wafer. Hệ thống đo nhiệt độ tích hợp giúp kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác trong thời gian vài milligiây, từ đó giúp duy trì nhiệt độ nung ở mức ổn định. Đèn này phù hợp với môi trường làm việc có độ sạch cấp 1–100, với vật liệu ít tỏa khí và không tạo ra hạt bụi. Lớp cách nhiệt bằng sợi carbon giúp giảm khối lượng nhiệt và ổn định nhiệt độ nhanh chóng; trong khi vỏ bọc bằng thủy tinh thì có thể chịu được các chu kỳ nhiệt độ lặp đi lặp lại. Thời gian hoạt động của đèn có thể lên đến 5.000 giờ, với mức suy giảm hiệu suất dưới 5%.
Tại sao phương pháp này hiệu quả? Thiết bị này có thể thực hiện các công việc như sấy khô wafer, nung lớp phim quang học, đóng gói sản phẩm và vệ sinh wafer mà không cần thay đổi dụng cụ. Độ đồng đều nhiệt độ cao giúp giảm các khuyết tật trên bề mặt wafer và nâng cao tỷ lệ thành phẩm. Việc ổn định nhiệt độ nhanh giúp rút ngắn thời gian nung, từ đó giảm chi phí năng lượng và tăng năng suất sản xuất. Do nhiệt độ được kiểm soát chính xác, nên các thông số quy trình cũng được kiểm soát tốt hơn.
Những điều cần biết Đèn này tương thích với các giao diện tiêu chuẩn, nhưng hình dạng của bộ phản xạ ánh sáng cần phải phù hợp với kích thước wafer và cấu trúc của bộ giữ wafer. Cần có thời gian để điều chỉnh các thông số PID và xác nhận mức nhiệt độ tại các điểm xử lý. Việc vận hành đèn ở nhiệt độ cao hơn giới hạn cho phép sẽ làm giảm tuổi thọ của đèn; chúng tôi khuyến nghị nên duy trì nhiệt độ dưới 650°C để đảm bảo độ tin cậy của đèn.