लिथोग्राफी प्रक्रिया में, वेफर के तापमान में 1°C का बदलाव भी उसकी रेखाओं की मोटाई को नैनोमीटर स्तर पर प्रभावित कर सकता है; इसके अलावा, कणों की...

On the lithography floor, फोटोरेज़िस्ट सॉफ्ट बेक में आधा डिग्री का ड्रिफ्ट भी क्रिटिकल डायमेंशन (CD) कंट्रोल को स्पेक से बाहर करने के लिए पर्याप्त...