リソグラフィーの工程においては、ウェハの温度が1℃変動するだけで、線幅がナノメートル単位で変わってしまいます。また、粒子の影響により多くの製品がダメになってしまうこともあります。そのため、熱的な状態を適切に管理するために、ゾーン別に制御可能な赤外線ヒーターモジュールが導入されているのです。 技術的...

リソグラフィフロアでは、フォトレジストのソフトベーク温度が0.5℃ずれるだけでクリティカルディメンション（CD）制御が規格外になる。ウェハの待ちが発生し、スクラップ率が上昇し、ラインは温度の不均一性にコストを支払うことになる。我々は、その不確実性を排除するために、フォトレジスト乾燥用赤外線モジュー...