化学的な洗浄処理の後にMEMSセンサーワッフルを乾燥させる際には、熱が必要です。しかも、できるだけ早く熱を与える必要があります。しかし問題は、可燃性の溶剤がある環境でそのような作業を行うことは、まるで火遊びのようなものです。比喩的な意味ではなく、実際に爆発する可能性があるという意味です。 そのため...

ウェハ乾燥装置におけるランプの破損対処法 正直に言って、半導体製造工場で赤外線ランプが壊れてしまうと、それは本当に厄介な問題です。単に部品を交換するだけでは解決しません。 石英管が過度な負荷によって破裂すると、破片や微粒子がウェハに飛び散ります。そうなると、製品の歩留まりは激減し、作業員は何時間も...

製造ラインでは、CMP処理後にわずかな水分が残っているだけで、研磨を経ても正常に動作しないチップができてしまいます。CMP処理後のウェーハの乾燥は、単なるオプションではなく、不可欠な工程です。 ヒーターの温度が不安定になると、表面張力によってウェーハ表面に傷ができ、その欠陥がリソグラフィ工程に影響...

ファブフロアでの重要性 ファブフロアでは、残された水分が1マイクロンでも歩留まりを損なう可能性があります。対流オーブンは、先進的なプロセスノードが要求する熱バジェットと粒子管理に追いつくことができません。ここでは、誤差の余地はありません。 実際に重要なこと 赤外線乾燥は、全体のチャンバー空気を温め...

リソグラフィフロアでは、フォトレジストのソフトベーク温度が0.5℃ずれるだけでクリティカルディメンション（CD）制御が規格外になる。ウェハの待ちが発生し、スクラップ率が上昇し、ラインは温度の不均一性にコストを支払うことになる。我々は、その不確実性を排除するために、フォトレジスト乾燥用赤外線モジュー...

ウェーハは最終すすぎから出され、時計が動き始める。放置時間が長すぎたり、乾燥時に不均一な熱プロファイルを与えたりすると、溶媒の残留物が移動し始める。フォトレジストパターンが軟化し、クリティカルディメンション（CD）制御が乱れる。その結果は後でマップ上に現れる――一見すると偶然の失敗のようだが、実際...