ファブ内では、わずか0.2℃の温度変動だけで、フォトレジストのプロファイル制御が乱れてしまいます。その結果、オーバーレイやエッチングの精度も低下してしまいます。ウェハーは温度変動を許容しません。そこで私たちは、実際の状況に合わせて赤外線ヒーターを開発しました。これにより、温度のドリフトがなく、再現性の高い加熱が可能になります。また、クリーンルームでも使用できる構造です。
技術的に重要な点 短波長の赤外線素子を使用することで、熱が直接ウェハーに伝わります。その結果、ウェハー全体の温度均一性は±0.1℃以内に抑えられます。サイクルごとの温度の再現性も±0.5℃以内です。つまり、ソフトベイクやハードベイクのプロファイルも正確に維持されます。
ヒーター本体は石英や高品質なセラミックで作られており、有機物は含まれていません。また、粒子の発生を最小限に抑える設計になっているため、クラス1～100のクリーンルームでも使用できます。制御性能も安定しており、熱惯性が低いため、カセットを装填した後もすぐに安定します。これにより、無駄な待機時間が削減され、精度も保たれます。
なぜこれがリソグラフィーに有効なのか リソグラフィーの現場では、フォトレジストの感度から、温度がCDの精度や欠陥の抑制に重要な要素となります。安定したヒーターを使用することで、再工程の回数が減少し、分布が均一になります。また、予測可能な熱変化も実現されます。
迅速な応答性により、不要な加熱時間が短縮され、低質量の構造により、起動時や待機時のエネルギー消費も削減されます。同じサイズやコネクタを使いながら、変動を制御できるため、スクラップや不良率が減少します。
知っておくべき点 標準的なヒータープラットフォームにも簡単に取り付けられますが、熱インターフェースやセンサーの位置を正確に確認する必要があります。数ミリメートルのずれでも、温度均一性に影響を与えます。
注文する前に、電圧、電流、コネクタの種類を必ず確認してください。設置後は、短時間のバーンインとキャリブレーションを行い、ヒーターとウェハーの位置を正確に把握し、設定値をプロセスに合わせて調整します。